一種太陽能電池返工片鍍膜工藝的制作方法
【專利摘要】一種太陽能電池返工片鍍膜工藝，采用雙層膜工藝，第一層膜的折射率高于第二層膜的折射率，且第一層膜的厚度為25～40mm。本發(fā)明提供的工藝有效降低了重新制絨后所產(chǎn)生的電池外觀不良比例。
【專利說明】
-種太陽能電池返工片媳膜工藝
技術(shù)領(lǐng)域
[0001] 本發(fā)明屬于光伏技術(shù)領(lǐng)域，尤其設(shè)及一種太陽能電池返工片鍛膜工藝。
【背景技術(shù)】
[0002] 太陽能是人類取之不盡用之不竭的可再生能源，也是清潔能源，不產(chǎn)生任何的環(huán) 境污染。在太陽能的有效利用當(dāng)中，大陽能光電利用是近些年來發(fā)展最快，最具活力的研究 領(lǐng)域，是其中最受矚目的項(xiàng)目之一。為此，人們研制和開發(fā)了太陽能電池。制作太陽能電池 主要是W半導(dǎo)體材料為基礎(chǔ)，其工作原理是利用光電材料吸收光能后發(fā)生光電于轉(zhuǎn)換反 應(yīng)。根據(jù)所用材料的不同可分為:娃太陽能電池；W無機(jī)鹽如神化嫁III-V化合物、蹄化儒、 硫化儒、銅銅砸等多元化合物為材料的電池;功能高分子材料制備的太陽能電池;納米晶娃 太陽能電池等。
[0003] 考慮到半導(dǎo)體材料的禁帶不能太寬、要有較高的光電轉(zhuǎn)換效率、材料本身對(duì)環(huán)境 不造成污染、材料便于工業(yè)化生產(chǎn)且材料性能穩(wěn)定等方面，娃是最理想的太陽能電池材料， 運(yùn)也是太陽能電池W娃材料為主的主要原因。
[0004] 在晶體娃太陽電池的傳統(tǒng)制備工藝的產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)中，時(shí)常在制程過程由于人員操 作或設(shè)備異常等原因，導(dǎo)致產(chǎn)生臟片或者鍛膜W及擴(kuò)散不均勻，運(yùn)些娃片為不良品，通常需 要重新制絨進(jìn)行返工處理。多晶娃片通常使用HF和HN化混合酸刻蝕工藝，返工制絨后會(huì)導(dǎo) 致多晶娃片的晶花差異變得更為明顯，且易出現(xiàn)刻蝕暗紋。運(yùn)些外觀現(xiàn)象無法在后續(xù)常規(guī) 工藝制程中完全消除，最終形成的外觀不良電池片只能作為不合格品進(jìn)行處理。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 鑒于現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題，本發(fā)明的目的在于提供一種太陽能電池返工片鍛膜 工藝。本發(fā)明提供的新型的鍛膜工藝可W有效降低電池返工片外觀不良的比例，降低返工 多晶娃片二次制絨后所導(dǎo)致晶粒在視覺上的反差，同時(shí)對(duì)電池效率不會(huì)造成過大影響。
[0006] 為達(dá)此目的，本發(fā)明采用W下技術(shù)方案：
[0007] -種太陽能電池返工片鍛膜工藝，采用雙層膜工藝，第一層膜的折射率高于第二 層膜的折射率，且第一層膜的厚度為25~40mm，例如為2711111、3211111、3511111、3711111等。
[000引本發(fā)明基于傳統(tǒng)的雙層膜工藝，第一層膜選用明顯高于常規(guī)工藝薄膜及第二層膜 的高折射率的薄膜，同時(shí)膜厚較厚，大于常規(guī)的第一層膜的厚度20~25mm，可W有效的限制 晶粒視覺上的反差，提高了返工電池片外觀良率;第二層膜選用低折射率的薄膜W降低第 一層膜折射率過高導(dǎo)致薄膜光自吸收過強(qiáng)，從而降低電池電學(xué)性能的影響。本發(fā)明的雙層 膜的結(jié)構(gòu)示意圖如圖1所示。
[0009] 作為優(yōu)選，所述第一層膜為SiNx薄膜。
[0010] 作為優(yōu)選，所述第二層膜為SiNx薄膜。
[0011] 作為優(yōu)選，所述第一層膜的折射率為2.2~2.5，例如為2.25、2.3、2.36、2.41、2.48 等。上述折射率范圍可W達(dá)到降低外觀不良片比例的效果，又不太影響電池效率。
[0012]作為優(yōu)選，所述第二層膜的折射率為2.0~2.1，例如為2.03、2.06、2.09等。
[OOU] 作為優(yōu)選，所述第二層膜的厚度為40~60加1，例如為42nm、46nm、50nm、53nm、57nm 等。
[0014] 作為優(yōu)選，鍛第一層膜時(shí)的溫度為400~450°C，例如為403°C、409°C、415°C、420 °C、425°C、430°C、436°C、442°C、448°C等。
[0015] 作為優(yōu)選，鍛第二層膜時(shí)的溫度為400~45(TC，例如為403r、409r、415r、420 °C、425°C、430°C、436°C、442°C、448°C等。
[0016] 鍛第一層膜時(shí)的溫度與鍛第二層膜時(shí)的溫度可相同或不同。
[0017] 作為優(yōu)選，第一層膜的厚度為25~40皿，折射率為2.2~2.5，鍛第一層膜時(shí)的溫度 為400~450°C ;第二層膜的厚度為40~60nm，折射率為2.0~2.1，鍛第二層膜時(shí)的溫度為 400~450°C。在上述條件下鍛膜即可保證了電池效率，又可降低工片的外觀不良片比例；如 果不在上述范圍內(nèi)，則會(huì)嚴(yán)重影響電池的效率。
[0018] 本發(fā)明通過在使用雙層膜鍛膜工藝的基礎(chǔ)上，第一層膜采用折射率明顯高于常規(guī) 工藝的SiNx薄膜，同時(shí)膜厚較厚，由此降低晶花在視覺上的差異，提高了返工電池片外觀良 率。
【附圖說明】
[0019] 圖1是雙層膜的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0020] 圖2是使用實(shí)施例1對(duì)制絨返工片進(jìn)行鍛膜實(shí)驗(yàn)后得到的半成品電池的圖片；
[0021] 圖3是使用對(duì)比例1對(duì)制絨返工片進(jìn)行鍛膜實(shí)驗(yàn)后得到的半成品電池的圖片。
[0022] 下面對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步詳細(xì)說明。但下述的實(shí)例僅僅是本發(fā)明的簡(jiǎn)易例子，并不代 表或限制本發(fā)明的權(quán)利保護(hù)范圍，本發(fā)明的保護(hù)范圍W權(quán)利要求書為準(zhǔn)。
【具體實(shí)施方式】
[0023] 下面結(jié)合附圖并通過【具體實(shí)施方式】來進(jìn)一步說明本發(fā)明的技術(shù)方案。
[0024] 為更好地說明本發(fā)明，便于理解本發(fā)明的技術(shù)方案，本發(fā)明的典型但非限制性的 實(shí)施例如下：
[0025] 實(shí)施例1
[0026] 使用如下表1中工藝參數(shù)進(jìn)行鍛膜實(shí)驗(yàn)。
[0027] 表 1 「nnoQl
[0029] 實(shí)施例2
[0030] 使用如下表2中工藝參數(shù)進(jìn)行鍛膜實(shí)驗(yàn)。
[0031] 表 2 「nnool
LUUJJ」 頭砸例3
[0034] 使用如下表3中工藝參數(shù)進(jìn)行鍛膜實(shí)驗(yàn)。
[0035] 表 3 「nno么1 L0037J 對(duì)比例1
[0038] 使用常規(guī)雙層膜工藝進(jìn)行對(duì)比，常規(guī)工藝如下表4所示。
[0039] 表 4
[0040]
[0041] 性能測(cè)試
[0042] 分別使用實(shí)施例1-3和對(duì)比例1兩種工藝對(duì)制絨返工片進(jìn)行鍛膜實(shí)驗(yàn)后得到的半 成品電池。
[0043] 圖1是雙層膜的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0044] 圖2是使用實(shí)施例1對(duì)制絨返工片進(jìn)行鍛膜實(shí)驗(yàn)后得到的半成品電池的圖片。
[0045] 圖3是使用對(duì)比例1對(duì)制絨返工片進(jìn)行鍛膜實(shí)驗(yàn)后得到的半成品電池的圖片。
[0046] 從圖2和圖3的對(duì)比可W看出，本發(fā)明所使用的鍛膜工藝所得半成品電池具有較為 優(yōu)良的外觀，對(duì)比例所得的半成品電池的外觀則出現(xiàn)明顯的晶花差異。可見本發(fā)明的工藝 有效降低了制絨返工片重新制備成電池后的外觀不良。
[0047] 同時(shí)對(duì)由運(yùn)兩種工藝制得的電池的電學(xué)性能對(duì)比如下表5所示。
[004引 表5
[00491
[0
[0051]從上表5中可W看出，本發(fā)明的工藝所得電池的電學(xué)性能與對(duì)比例的電池的電學(xué) 性能相當(dāng)。
[0052] 由此可見，本發(fā)明所使用的鍛膜工藝在有效降低了制絨返工片重新制備成電池后 的外觀不良的情況下，對(duì)于電池效率的影響也還在可接受范圍內(nèi)。
[0053] 本發(fā)明并不僅限于實(shí)施例，其他本領(lǐng)域人員根據(jù)本發(fā)明所做的相關(guān)非本質(zhì)改變， 同樣應(yīng)是本發(fā)明所保護(hù)的范圍。
[0054]
【申請(qǐng)人】聲明，本發(fā)明通過上述實(shí)施例來說明本發(fā)明的詳細(xì)結(jié)構(gòu)特征，但本發(fā)明并 不局限于上述詳細(xì)結(jié)構(gòu)特征，即不意味著本發(fā)明必須依賴上述詳細(xì)結(jié)構(gòu)特征才能實(shí)施。所 屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該明了，對(duì)本發(fā)明的任何改進(jìn)，對(duì)本發(fā)明所選用部件的等效替換 W及輔助部件的增加、具體方式的選擇等，均落在本發(fā)明的保護(hù)范圍和公開范圍之內(nèi)。
[0055] W上詳細(xì)描述了本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，但是，本發(fā)明并不限于上述實(shí)施方式中 的具體細(xì)節(jié)，在本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思范圍內(nèi)，可W對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)行多種簡(jiǎn)單變型，運(yùn) 些簡(jiǎn)單變型均屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。
[0056] 另外需要說明的是，在上述【具體實(shí)施方式】中所描述的各個(gè)具體技術(shù)特征，在不矛 盾的情況下，可W通過任何合適的方式進(jìn)行組合，為了避免不必要的重復(fù)，本發(fā)明對(duì)各種可 能的組合方式不再另行說明。
[0057] 此外，本發(fā)明的各種不同的實(shí)施方式之間也可W進(jìn)行任意組合，只要其不違背本 發(fā)明的思想，其同樣應(yīng)當(dāng)視為本發(fā)明所公開的內(nèi)容。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種太陽能電池返工片鍍膜工藝，采用雙層膜工藝，第一層膜的折射率高于第二層 膜的折射率，且第一層膜的厚度為25~40mm。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的工藝，其特征在于，所述第一層膜為SiNx薄膜。3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的工藝，其特征在于，所述第二層膜為SiNx薄膜。4. 根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的工藝，其特征在于，所述第一層膜的折射率為2.2~ 2.5〇5. 根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的工藝，其特征在于，所述第二層膜的折射率為2.0~ 2.1。6. 根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的工藝，其特征在于，所述第一層膜的厚度為25~ 40nm〇7. 根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的工藝，其特征在于，所述第二層膜的厚度為40~ 60nm〇8. 根據(jù)權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的工藝，其特征在于，鍍第一層膜時(shí)的溫度為400~450 Γ。9. 根據(jù)權(quán)利要求1-8任一項(xiàng)所述的工藝，其特征在于，鍍第二層膜時(shí)的溫度為400~450 Γ。10. 根據(jù)權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的工藝，其特征在于，第一層膜的厚度為25~40nm，折 射率為2.2~2.5，鍍第一層膜時(shí)的溫度為400~450°C ;第二層膜的厚度為40~60nm，折射率 為2.0~2.1，鍍第二層膜時(shí)的溫度為400~450 °C。
【文檔編號(hào)】H01L31/18GK106098861SQ201610749716
【公開日】2016年11月9日
【申請(qǐng)日】2016年8月29日
【發(fā)明人】陳文浩, 王冕, 奚彬, 劉仁中
【申請(qǐng)人】奧特斯維能源（太倉）有限公司