本發(fā)明涉及半導(dǎo)體器件領(lǐng)域，尤其涉及顯示面板及其制造方法。

背景技術(shù)：

透明顯示面板一般是指能夠形成透明顯示狀態(tài)來使觀看者可以看到顯示面案后方景象的顯示面板。透明顯示面板較常見應(yīng)用于例如櫥窗等，其需要展示透明顯示面板實(shí)體物品并呈現(xiàn)顯示畫面。透明顯示面板可采用的技術(shù)有很多種，例如OLED顯示面板，其具有自發(fā)光、廣視角、反應(yīng)時(shí)間快、高發(fā)光效率、低操作電壓、面板厚度薄、可制作柔性面板以及制造工藝簡單等優(yōu)點(diǎn)，并且OLED顯示面板的制作技術(shù)已逐漸成熟。因此，使用OLED顯示面板的透明顯示面板的相關(guān)技術(shù)持續(xù)于業(yè)界發(fā)表。

由于透明顯示面板需要兼顧透明顯示狀態(tài)和顯示影像功能，因此透明度是透明顯示面板的重要指標(biāo)。然而在現(xiàn)有技術(shù)的透明顯示面板的制程中，其透明度受到透明顯示面板透明區(qū)內(nèi)各層材料及其透明度的影響。例如，在一些現(xiàn)有技術(shù)中，OLED元件的陰極利用定義面板形狀的共用掩模來進(jìn)行蒸鍍。在這種情況下，陰極覆蓋了透明區(qū)進(jìn)而導(dǎo)致顯示面板透明度降低。

在另一些現(xiàn)有技術(shù)中，由于不透明區(qū)110中的子像素130至少通過陰極與相鄰的不透明區(qū)110中的子像素130相連，同時(shí)又需要減少透明區(qū)120中的陰極的部分，因此OLED元件的陰極需要按照?qǐng)D1所示的不透明區(qū)110及不透明區(qū)140來形成。由于現(xiàn)有技術(shù)中的精細(xì)金屬掩模(Fine Metal mask)無法張開顯示面板100的不透明區(qū)110及140的形狀，因此需要用兩張精細(xì)金屬掩模分別形成不透明區(qū)110及不透明區(qū)140的形狀。然而，利用兩張精細(xì)金屬掩模來形成OLED元件的陰極會(huì)使顯示面板100的良率降低，并且制程復(fù)雜，難度較大。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明為了克服上述現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷，提供一種顯示面板及其制造方法，其能夠提高顯示面板的透明度。

本發(fā)明提供一種顯示面板，包括：基板，具有多個(gè)不透明區(qū)和多個(gè)透明區(qū)；透明阻擋層，形成于所述基板上的所述透明區(qū)內(nèi)；多個(gè)顯示元件，形成于所述基板上的所述不透明區(qū)內(nèi)，包括：第一電極層；有機(jī)功能層，形成于所述第一電極層上；以及第二電極層，形成于所述有機(jī)功能層上。

優(yōu)選地，所述有機(jī)功能層及所述第二電極層分別具有一開口，所述開口與所述透明區(qū)的形狀相對(duì)應(yīng)，所述開口暴露所述透明阻擋層。

優(yōu)選地，各所述透明區(qū)具有相同的規(guī)則形狀。

優(yōu)選地，相鄰的所述不透明區(qū)彼此相接，各所述透明區(qū)至少被一個(gè)所述不透明區(qū)圍繞。

優(yōu)選地，位于不同不透明區(qū)的所述顯示元件的所述第二電極層通過彼此相接的所述不透明區(qū)彼此連接。

優(yōu)選地，還包括：薄膜晶體管，所述薄膜晶體管位于所述基板和所述顯示元件之間。

優(yōu)選地，還包括：柵極絕緣層，位于所述薄膜晶體管與所述基板之間，所述柵極絕緣層延伸至所述透明區(qū)，所述透明區(qū)內(nèi)的所述柵極絕緣層位于所述基板和所述透明阻擋層之間。

優(yōu)選地，還包括：鈍化層，位于所述薄膜晶體管與所述顯示元件之間，并延伸至所述透明區(qū)，所述透明區(qū)內(nèi)的所述鈍化層位于所述基板和所述透明阻擋層之間。

優(yōu)選地，所述透明阻擋層為ITO薄膜。

優(yōu)選地，所述顯示面板為透明顯示面板。

根據(jù)本發(fā)明的又一個(gè)方面，還提供一種顯示面板的制造方法，包括：提供基板，所述基板具有多個(gè)不透明區(qū)和多個(gè)透明區(qū)；在所述基板上的多個(gè)所述透明區(qū)內(nèi)分別形成透明阻擋層；在所述基板上的多個(gè)所述不透明區(qū)內(nèi)分別形成多個(gè)顯示元件，包括：在所述基板上形成第一電極層；在所述第一電極層上形成有機(jī)功能層，并延伸至所述透明區(qū)；以及在所述有機(jī)功能層上形成第二電極層，并延伸至所述透明區(qū)，移除位于所述透明區(qū)中所述透明阻擋層之上的所述有機(jī)功能層及所述第二電極層。

優(yōu)選地，移除位于所述透明區(qū)中所述透明阻擋層之上的所述有機(jī)功能層及所述第二電極層的工藝包括：利用一張掩模對(duì)所述有機(jī)功能層及所述第二電極層進(jìn)行刻蝕，所述掩模使所述有機(jī)功能層及所述第二電極層在所述透明區(qū)具有與所述透明區(qū)的形狀相對(duì)應(yīng)的開口。

優(yōu)選地，各所述透明區(qū)具有相同的規(guī)則形狀。

優(yōu)選地，相鄰的所述不透明區(qū)彼此相接，各所述透明區(qū)至少被一個(gè)所述不透明區(qū)圍繞，且各所述顯示元件的所述第二電極層通過彼此相接的所述不透明區(qū)彼此連接。

優(yōu)選地，所述掩模為金屬掩模。

優(yōu)選地，利用等離子體轟擊所述透明區(qū)來刻蝕所述有機(jī)功能層及所述第二電極層。

優(yōu)選地，在所述有機(jī)功能層上形成第二電極層的工藝包括：利用共用掩模形成所述第二電極層。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的優(yōu)勢(shì)在于：

1.利用形成在透明區(qū)的透明材料的透明阻擋層，使得位于透明區(qū)的顯示元件的有機(jī)功能層及第二電極層能夠被刻蝕，解決透明區(qū)被陰極遮擋的問題，從而改善顯示面板的透明度。

2.透明材料的透明阻擋層可以有效的保護(hù)基板及位于透明阻擋層和基板之間的各層。

3.本發(fā)明可僅利用一張金屬掩模對(duì)第二電極層進(jìn)行刻蝕，且由于透明區(qū)為規(guī)則形狀，金屬掩?；緹o張網(wǎng)難度。

附圖說明

通過參照附圖詳細(xì)描述其示例實(shí)施方式，本發(fā)明的上述和其它特征及優(yōu)點(diǎn)將變得更加明顯。

圖1示出了現(xiàn)有技術(shù)的顯示面板的示意圖。

圖2A示出了根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的顯示面板的示意圖。

圖2B示出了根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的顯示面板的示意圖。

圖3示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的顯示面板制程中的截面圖。

圖4示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的顯示面板的截面圖。

其中，附圖標(biāo)記說明如下：

100 顯示面板

110 不透明區(qū)

120 透明區(qū)

130 子像素

140 不透明區(qū)

200 顯示面板

210 不透明區(qū)

220 透明區(qū)

230 子像素

200’ 顯示面板

210’ 不透明區(qū)

220’ 透明區(qū)

230’ 子像素

300 顯示面板

310 基板

320 柵極絕緣層

331 柵極

332 源極

333 漏極

334 有源層

340 鈍化層

351 陽極

352 像素定義層

353 隔墊物

354 空穴傳輸層

355 發(fā)光層

356 電子傳輸層

357 陰極

360 透明阻擋層

具體實(shí)施方式

現(xiàn)在將參考附圖更全面地描述示例實(shí)施方式。然而，示例實(shí)施方式能夠以多種形式實(shí)施，且不應(yīng)被理解為限于在此闡述的實(shí)施方式；相反，提供這些實(shí)施方式使得本發(fā)明將全面和完整，并將示例實(shí)施方式的構(gòu)思全面地傳達(dá)給本領(lǐng)域的技術(shù)人員。在圖中相同的附圖標(biāo)記表示相同或類似的結(jié)構(gòu)，因而將省略對(duì)它們的重復(fù)描述。

所描述的特征、結(jié)構(gòu)或特性可以以任何合適的方式結(jié)合在一個(gè)或更多實(shí)施方式中。在下面的描述中，提供許多具體細(xì)節(jié)從而給出對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式的充分理解。然而，本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)意識(shí)到，沒有特定細(xì)節(jié)中的一個(gè)或更多，或者采用其它的方法、組元、材料等，也可以實(shí)踐本發(fā)明的技術(shù)方案。在某些情況下，不詳細(xì)示出或描述公知結(jié)構(gòu)、材料或者操作以避免模糊本發(fā)明。

本發(fā)明的附圖僅用于示意相對(duì)位置關(guān)系，某些部位的層厚采用了夸示的繪圖方式以便于理解，附圖中的層厚并不代表實(shí)際層厚的比例關(guān)系。

結(jié)合圖2A至圖4描述本發(fā)明提供的顯示面板的結(jié)構(gòu)及制作方法。首先參見圖2A，圖2A示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的顯示面板的示意圖。顯示面板200優(yōu)選地是透明顯示面板。顯示面板200包括具有多個(gè)不透明區(qū)210和多個(gè)透明區(qū)220的基板。由顯示元件形成的至少一個(gè)子像素230位于多個(gè)不透明區(qū)210中。在本實(shí)施例中，各不透明區(qū)210內(nèi)有三個(gè)不同顏色的子像素230。三個(gè)不同顏色的子像素230沿豎直方向?qū)R排列。各透明區(qū)220與各不透明區(qū)210一一對(duì)應(yīng)，并且各透明區(qū)220被一個(gè)不透明區(qū)210圍繞。各透明區(qū)220具有相同的規(guī)則形狀。例如，各透明區(qū)220可以是矩形、圓形、橢圓等規(guī)則形狀。

在一些變化例中，各不透明區(qū)210’可以共用子像素230’。不同顏色的子像素230’并非對(duì)齊排列。其透明區(qū)220’與各不透明區(qū)210’一一對(duì)應(yīng)，并且各透明區(qū)220’被一個(gè)不透明區(qū)210’圍繞(如圖2B所示)。

圖2A和圖2B僅示意性地描繪本發(fā)明的顯示面板。在一些實(shí)施例中，各不透明區(qū)內(nèi)僅有一個(gè)子像素，相鄰的不透明區(qū)彼此相接，且各透明區(qū)被多個(gè)不透明區(qū)圍繞。在又一些實(shí)施例中，各不透明區(qū)內(nèi)有兩個(gè)不同顏色的子像素，相鄰的不透明區(qū)彼此相接，且各透明區(qū)被多個(gè)不透明區(qū)圍繞。本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)需要實(shí)現(xiàn)更多的實(shí)施例，在此不予贅述。

繼續(xù)參見圖3及圖4描述圖2A中顯示面板在不透明區(qū)210及透明區(qū)220的截面結(jié)構(gòu)。顯示面板300包括在基板310的不透明區(qū)210上的顯示元件以及在基板310的透明區(qū)220上的透明阻擋層360。

在不透明區(qū)310內(nèi)，顯示面板300還包括位于基板310和顯示元件之間的薄膜晶體管(TFT元件)。薄膜晶體管包括依次在基板310上形成的柵極331、有源層334以及源極332和漏極333。柵極331與有源層334、源極332和漏極333之間還形成有柵極絕緣層320。薄膜晶體管與顯示元件之間還形成有鈍化層340。

顯示元件優(yōu)選地為OLED元件，其包括在鈍化層340上依次形成的第一電極層351、有機(jī)功能層及第二電極層357。在本實(shí)施例中，第一電極層351為陽極，第二電極層357為陰極。陽極351優(yōu)選地為ITO/Ag/ITO復(fù)合薄膜。在一些變化例中，陽極351還可以使用其他材料來形成。陽極351穿過鈍化層340與薄膜晶體管的漏極333連接。陰極357優(yōu)選地由Al來形成。在一些變化例中，陰極357也可以使用其他材料或復(fù)合薄膜來形成。有機(jī)功能層包括依次在陽極351上形成的空穴傳輸層354、發(fā)光層355及電子傳輸層356。

顯示元件所形成的子像素顏色及形狀由發(fā)光層355的材料及形狀來定義。由顯示元件所形成的像素之間還形成有像素定義層352及位于像素定義層352之上的隔墊物(photo spacer)353。像素定義層352位于鈍化層340上，并間隔相鄰像素。

柵極絕緣層320、鈍化層340、有機(jī)功能層及陰極357由于使用共用掩模蒸鍍形成，因此，上述各層會(huì)延伸至透明區(qū)220。在本實(shí)施例中，透明阻擋層360位于鈍化層340和有機(jī)功能層之間，則有機(jī)功能層及陰極357延伸至透明區(qū)220的部分被刻蝕至透明阻擋層360上(參見圖4)，使得有機(jī)功能層及陰極357在透明區(qū)220具有與所述透明區(qū)220相同的形狀。在另一些實(shí)施例中，透明阻擋層360可以位于基板310與柵極絕緣層320之間、柵極絕緣層320與鈍化層340之間，進(jìn)而使得位于透明阻擋層360上的各層被刻蝕，同時(shí)保護(hù)位于透明阻擋層360下的各層。透明阻擋層360優(yōu)選地為ITO透明薄膜。

具體而言，位于不同不透明區(qū)210的顯示元件的陰極357通過彼此相接的不透明區(qū)210彼此連接。參考圖2A及圖2B，陰極357位于透明區(qū)220的部分被刻蝕掉，但其位于不透明區(qū)210的部分可以通過彼此相接的不透明區(qū)210互相連接。

結(jié)合圖3及圖4描述本發(fā)明提供的顯示面板的制造方法，其包括如下步驟：

S1：提供具有多個(gè)不透明區(qū)210和多個(gè)透明區(qū)220的基板310。

S2：在基板310上依次形成的柵極331、柵極絕緣層320、有源層334以及源極332和漏極333。

其中，柵極絕緣層320優(yōu)選地，利用共用掩模蒸鍍形成，其從不透明區(qū)210延伸到透明區(qū)220。共用掩模用于定義顯示面板的形狀。柵極331、有源層334以及源極332和漏極333利用薄膜刻蝕技術(shù)形成。優(yōu)選地，利用黃光薄膜刻蝕技術(shù)來形成上述薄膜晶體管的各層。

S3：在由柵極331、有源層334以及源極332和漏極333構(gòu)成的薄膜晶體管上形成有鈍化層340。鈍化層340優(yōu)選地，利用共用掩模蒸鍍形成，其從不透明區(qū)210延伸到透明區(qū)220。

S4：在多個(gè)透明區(qū)220內(nèi)形成透明阻擋層360。透明阻擋層360位于鈍化層340上。

S5：在多個(gè)不透明區(qū)210內(nèi)的鈍化層340上依次形成陽極351、空穴傳輸層354、發(fā)光層355、電子傳輸層356及陰極357，以形成OLED顯示元件。

其中，空穴傳輸層354、電子傳輸層356以及陰極357優(yōu)選地由共用掩模蒸鍍形成，其從不透明區(qū)210延伸到透明區(qū)220。陽極351利用薄膜刻蝕技術(shù)，例如黃光薄膜刻蝕技術(shù)來形成。

具體而言，本步驟還可以包括在多個(gè)不透明區(qū)210內(nèi)的鈍化層340上依次形成像素定義層352及隔墊物353。像素定義層352及隔墊物353位于相鄰像素之間。

進(jìn)一步地，上述步驟S4及步驟S5可以順序執(zhí)行或逆序執(zhí)行。

S5：刻蝕位于透明阻擋層360之上的空穴傳輸層354、電子傳輸層356及陰極357。

具體而言，本步驟利用一張掩模對(duì)位于透明阻擋層360之上的空穴傳輸層354、電子傳輸層356及陰極357進(jìn)行刻蝕。優(yōu)選地，本發(fā)明所使用的掩模為精細(xì)金屬掩模。該精細(xì)金屬掩模使空穴傳輸層354、電子傳輸層356及陰極357在透明區(qū)220具有與透明區(qū)220的形狀相對(duì)應(yīng)的開口，進(jìn)而將透明區(qū)220中的有機(jī)功能層及不透明的陰極357刻蝕掉，僅保留透明阻擋層360及透明阻擋層之下的透明的各層，來提高顯示面板300的透明度。

由于，各透明區(qū)具有相同的規(guī)則形狀，并且相鄰的不透明區(qū)210彼此相接，因此所使用的精細(xì)金屬掩模張網(wǎng)方便，并且可以只使用一張精細(xì)金屬掩模就可以刻蝕來形成陰極357圖案，并使刻蝕后的陰極357能夠通過彼此相接的不透明區(qū)210彼此連接。若現(xiàn)有技術(shù)也按圖2A的像素排列方式排列并僅使用一張精細(xì)金屬掩模來進(jìn)行蒸鍍，其所使用的精細(xì)金屬掩模包括平行排列的多個(gè)長條形透光區(qū)。然而，這樣的精細(xì)金屬掩模中間部分間隔多個(gè)長條形透光區(qū)的非透光部分無法受力，造成精細(xì)金屬掩模兩端張大而中間圖形不變的情況，進(jìn)而使得精細(xì)金屬掩模張網(wǎng)失敗。

優(yōu)選地，本發(fā)明利用等離子體轟擊透明區(qū)220來刻蝕空穴傳輸層354、電子傳輸層356及陰極357。

具體而言，利用精細(xì)金屬掩模遮擋住不透明區(qū)210，然后用特殊氣體及輝光放電等離子轟擊透明區(qū)220的有機(jī)功能層和陰極357，轟擊到透明阻擋層360停止。當(dāng)陰極357為金屬鋁的刻蝕轟擊中，通常用到以下氣體：Cl₂、BCl₃、Ar及N₂等。Cl₂作為主要的刻蝕氣體，與鋁生化學(xué)反應(yīng)，生成的可揮發(fā)的副產(chǎn)物AlCl₃被氣流帶出反應(yīng)腔。BCl₃一方面提供BCl₃，垂直轟擊顯示面板表面，達(dá)到各向異性的刻蝕。另一方面，由于鋁表面極易氧化成氧化鋁，這層自生氧化鋁在刻蝕的初期阻隔了Cl₂和鋁的接觸，阻礙了刻蝕的進(jìn)一步進(jìn)行。添加BCl₃則利于將這層氧化層還原，促進(jìn)刻蝕過程的繼續(xù)進(jìn)行，化學(xué)式如下：

Al₂O₃+3BCl₃→2AlCl₃+3BOCl

2Al+3Cl→2AlCl₃

由于是一種各向異性的干刻，而且有等離子體與電極之間的壓差來控制離子的能量和方向性，所以并不會(huì)對(duì)精細(xì)金屬掩模遮蔽區(qū)以外的地方造成損害。

上述步驟S1至S5僅示意性地描述本發(fā)明所提供的顯示面板的制造方法，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以實(shí)現(xiàn)更多的變化例。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的優(yōu)勢(shì)在于：

1.利用形成在透明區(qū)的透明材料的透明阻擋層，使得位于透明區(qū)的顯示元件的有機(jī)功能層及第二電極層能夠被刻蝕到透明阻擋層之上，解決透明區(qū)被陰極遮擋的問題，從而改善顯示面板的透明度。

2.透明材料的透明阻擋層可以有效的保護(hù)基板及位于透明阻擋層和基板之間的各層。

3.本發(fā)明可僅利用一張金屬掩模對(duì)第二電極層進(jìn)行刻蝕，且由于透明區(qū)為規(guī)則形狀，金屬掩?；緹o張網(wǎng)難度。

以上具體地示出和描述了本發(fā)明的示例性實(shí)施方式。應(yīng)該理解，本發(fā)明不限于所公開的實(shí)施方式，相反，本發(fā)明意圖涵蓋包含在所附權(quán)利要求范圍內(nèi)的各種修改和等效置換。