專利名稱：具有在線清洗功能的質(zhì)譜分析儀及工作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及質(zhì)譜分析儀的清洗，特別涉及具有在線清洗功能的質(zhì)譜分析儀及工作方法。
背景技術(shù)：
離子阱是一種性能優(yōu)良的質(zhì)量分析器，它進(jìn)行質(zhì)量分析的基本原理是首先將不同質(zhì)荷比的離子束縛在離子阱中，然后通過(guò)電場(chǎng)作用將不同質(zhì)荷比的離子區(qū)分開(kāi)開(kāi)，達(dá)到質(zhì)量分析的目的。離子阱質(zhì)量分析器具有體積小、容易加工、對(duì)真空度要求低、維護(hù)成本低、靈敏度高以及可進(jìn)行多級(jí)質(zhì)譜分析等眾多優(yōu)點(diǎn)，因此，基于離子阱質(zhì)量分析器被廣泛地應(yīng)用于各種質(zhì)譜儀中，特別是小型化或便攜式質(zhì)譜儀。雖然離子阱擁有眾多的優(yōu)點(diǎn)，但它也存在一些缺陷，特別是離子阱表面在工作中容易受到污染，如吸附上一些有機(jī)物等。離子阱表面污染會(huì)帶來(lái)化學(xué)噪聲變大、靈敏度降低以及電荷積累等問(wèn)題，嚴(yán)重影響離子阱質(zhì)量分析器的性能。傳統(tǒng)的臺(tái)式離子阱質(zhì)譜儀通常采用定期清洗離子阱來(lái)保證質(zhì)譜儀的靈敏度，對(duì)離子阱進(jìn)行清洗需要進(jìn)行一系列的操作，包括離子阱質(zhì)譜儀停機(jī)以放空真空、拆卸離子阱質(zhì)量分析器、超聲清洗、離子阱質(zhì)量分析器裝配、儀器復(fù)原、重新抽真空以及烤阱等。上述清洗離子阱的方法存在的主要問(wèn)題是1、拆卸離子阱需要復(fù)雜而繁瑣的操作，需要耗費(fèi)大量時(shí)間，而且對(duì)操作人員的要求也較高。2、使用超聲清洗無(wú)法完全去除一些吸附性很強(qiáng)的有機(jī)物，可能造成清洗不徹底， 無(wú)法使儀器達(dá)到最佳狀態(tài)。3、需要輔助的清洗設(shè)備以及大量的清洗液和溶劑等。4、對(duì)小型質(zhì)譜儀，特別是便攜式質(zhì)譜儀來(lái)說(shuō)，其集成度很高，拆卸離子阱質(zhì)量分析器往往非常困難，對(duì)使用便攜式質(zhì)譜儀的客戶來(lái)說(shuō)，進(jìn)行上述繁瑣的操作幾乎是不可能完成的任務(wù)。

發(fā)明內(nèi)容
為了解決上述現(xiàn)有技術(shù)方案中的不足，本發(fā)明提供一種清洗效果好、便捷、自動(dòng)化的質(zhì)譜分析儀，還提供了一種清洗效果好、便捷、自動(dòng)化的質(zhì)譜分析儀的工作方法。本發(fā)明的目的是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的具有在線清洗功能的質(zhì)譜分析儀，所述質(zhì)譜分析儀包括離子阱或四極桿，所述質(zhì)譜分析儀進(jìn)一步包括射頻電源，所述射頻電源用于在質(zhì)譜分析儀處于工作狀態(tài)時(shí)為離子阱或四極桿的電極施加高頻電壓；在質(zhì)譜分析儀處于清洗狀態(tài)時(shí)給所述離子阱或四極桿的電極施加恒定電壓；真空單元，所述真空單元用于在清洗狀態(tài)時(shí)使所述離子阱或四極桿維持在低真空狀態(tài)，從而使得所述離子阱或四極桿的電極在所述恒定電壓、低真空狀態(tài)時(shí)發(fā)生等離子放電，以及在工作狀態(tài)時(shí)使所述離子阱或四極桿維持在高真空狀態(tài)；控制人員設(shè)備，所述控制人員設(shè)備用于選擇性地使所述質(zhì)譜分析儀處于清洗狀態(tài)、工作狀態(tài)和空閑狀態(tài)。根據(jù)上述的質(zhì)譜分析儀，優(yōu)選地，所述低真空狀態(tài)的壓力范圍為lO-lOOOmTorr。根據(jù)上述的質(zhì)譜分析儀，優(yōu)選地，所述恒定電壓為恒定幅值的射頻電壓，電壓范圍為100-1000伏特。根據(jù)上述的質(zhì)譜分析儀，可選地，所述質(zhì)譜分析儀進(jìn)一步包括定時(shí)人員設(shè)備，所述定值模塊用于設(shè)定清洗狀態(tài)的開(kāi)始時(shí)間以及持續(xù)時(shí)間，并傳送到所述控制人員設(shè)備。根據(jù)上述的質(zhì)譜分析儀，可選地，所述質(zhì)譜分析儀進(jìn)一步包括判斷人員設(shè)備，所述判斷人員設(shè)備用于根據(jù)電極之間是否放電或質(zhì)譜分析儀的化學(xué)噪聲是否超過(guò)閾值而決定是否該處于清洗狀態(tài)，判斷結(jié)果傳送到所述控制人員設(shè)備。根據(jù)上述的質(zhì)譜分析儀，可選地，所述射頻電源僅為一個(gè)射頻電源，或分別為所述電極提供高頻電壓和恒定電壓的第一射頻電源和第二電源。根據(jù)上述的質(zhì)譜分析儀，可選地，所述真空單元僅為一個(gè)真空單元，或分別為所述離子阱或四極桿維持在低真空狀態(tài)和高真空狀態(tài)的第一真空單元和第二真空單元。本發(fā)明的目的還通過(guò)以下技術(shù)方案得以實(shí)現(xiàn)具有在線清洗功能的質(zhì)譜分析儀的工作方法，所述工作方法為在控制人員設(shè)備的選擇下，所述質(zhì)譜分析儀處于在線清洗狀態(tài)，射頻電源為質(zhì)譜分析儀的離子阱或四極桿提供恒定電壓，真空單元使所述離子阱或四極桿維持在低真空狀態(tài)，使得所述離子阱或四極桿的電極發(fā)生等離子放電，從而清洗了所述電極；在所述控制人員設(shè)備的選擇下，所述質(zhì)譜分析儀處于工作狀態(tài)，所述射頻電源為所述離子阱或四極桿提供高頻電壓，所述真空單元是所述離子阱或四極桿維持在高真空狀態(tài)。根據(jù)上述工作方法，優(yōu)選地，所述低真空狀態(tài)的壓力范圍為lO-lOOOmTorr。根據(jù)上述工作方法，優(yōu)選地，所述恒定電壓為恒定幅值的射頻電壓，電壓范圍為 100-1000 伏特。根據(jù)上述的工作方法，可選地，所述工作方法進(jìn)一步包括判斷步驟判斷人員設(shè)備根據(jù)所述電極之間是否放電或質(zhì)譜分析儀的化學(xué)噪聲是否超過(guò)閾值而決定是否該處于清洗狀態(tài)，判斷結(jié)果傳送到所述控制人員設(shè)備。根據(jù)上述的工作方法，可選地，所述工作方法進(jìn)一步包括定時(shí)步驟在定時(shí)人員設(shè)備上設(shè)定所述清洗狀態(tài)的開(kāi)始時(shí)間和持續(xù)時(shí)間，定時(shí)人員設(shè)備的輸出信號(hào)傳送到所述控制人員設(shè)備。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有的有益效果為1、無(wú)需拆卸離子阱質(zhì)譜儀器及質(zhì)量分析器，節(jié)省大量的人力、物力和時(shí)間。2、清洗過(guò)程完全在儀器上自動(dòng)實(shí)現(xiàn)，無(wú)需任何外部設(shè)備和試劑。3、使離子阱質(zhì)譜儀用戶維護(hù)儀器變得非常便捷，同時(shí)可實(shí)現(xiàn)集成度高的小型質(zhì)譜儀或便攜式質(zhì)譜儀中離子阱的清洗和維護(hù)，使用以前的方法幾乎不可能實(shí)現(xiàn)。
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4、等離子清洗方法比超聲清洗方法更有效地去除離子阱表面吸附的污染物。


參照附圖，本發(fā)明的公開(kāi)內(nèi)容將變得更易理解。本領(lǐng)域技術(shù)人員容易理解的是這些附圖僅僅用于舉例說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)方案，而并非意在對(duì)本發(fā)明的保護(hù)范圍構(gòu)成限制。 圖中圖1是本發(fā)明的實(shí)施例中質(zhì)譜分析儀的基本結(jié)構(gòu)圖。
具體實(shí)施例方式圖1和以下說(shuō)明描述了本發(fā)明的可選實(shí)施方式以教導(dǎo)本領(lǐng)域技術(shù)人員如何實(shí)施和再現(xiàn)本發(fā)明。為了教導(dǎo)本發(fā)明技術(shù)方案，已簡(jiǎn)化或省略了一些常規(guī)方面。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該理解源自這些實(shí)施方式的變型或替換將在本發(fā)明的范圍內(nèi)。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該理解下述特征能夠以各種方式組合以形成本發(fā)明的多個(gè)變型。由此，本發(fā)明并不局限于下述可選實(shí)施方式，而僅由權(quán)利要求和它們的等同物限定。實(shí)施例1 圖1示意性地給出了本發(fā)明實(shí)施例的具有在線清洗功能的質(zhì)譜分析儀的基本結(jié)構(gòu)圖。如圖1所示，所述質(zhì)譜分析儀包括離子阱或四極桿，這些是本領(lǐng)域的現(xiàn)有技術(shù)，在此不再贅述。射頻電源，所述射頻電源用于在質(zhì)譜分析儀處于工作狀態(tài)時(shí)為離子阱或四極桿的電極施加高頻電壓；在質(zhì)譜分析儀處于清洗狀態(tài)時(shí)給所述離子阱或四極桿的電極施加恒定電壓；可選地，所述射頻電源可僅使用現(xiàn)有質(zhì)譜分析儀配備的一個(gè)射頻電源，分別為所述電極提供高頻電壓和恒定電壓，當(dāng)然也可以在原有提供高頻電壓的射頻電源的基礎(chǔ)上添加另一個(gè)為所述電極提供恒定電壓的射頻電源。具體的射頻電源是本領(lǐng)域的現(xiàn)有技術(shù)，在此不再贅述。真空單元，所述真空單元用于在清洗狀態(tài)時(shí)使所述離子阱或四極桿維持在低真空狀態(tài)，從而使得所述離子阱或四極桿的電極在所述恒定電壓、低真空狀態(tài)時(shí)發(fā)生等離子放電，以及在工作狀態(tài)時(shí)使所述離子阱或四極桿維持在高真空狀態(tài)；可選地，所述真空單元可僅使用現(xiàn)有質(zhì)譜分析儀配備的一個(gè)真空單元，分別為所述質(zhì)譜分析儀提供低真空和高真空，當(dāng)然也可以在原有提供高真空的真空單元的基礎(chǔ)上添加另一個(gè)為所述質(zhì)譜分析儀提供低真空的真空單元。具體的真空單元是本領(lǐng)域的現(xiàn)有技術(shù)，在此不再贅述。優(yōu)選地，所述低真空狀態(tài)的壓力范圍為lO-lOOOmTorr。優(yōu)選地，所述恒定電壓為恒定幅值的射頻電壓，電壓范圍為100-1000伏特?？刂迫藛T設(shè)備，所述控制人員設(shè)備用于選擇性地使所述質(zhì)譜分析儀處于清洗狀態(tài)、工作狀態(tài)和空閑狀態(tài)，通過(guò)控制人員設(shè)備調(diào)整所述射頻電源以及真空單元的工作狀態(tài) (如射頻電源輸出電壓的高低、真空單元實(shí)現(xiàn)的真空度的高低，工作與否)，從而使得質(zhì)譜分析儀處于上述三種狀態(tài)。上述控制人員設(shè)備可以通過(guò)維護(hù)人員實(shí)現(xiàn)或者電路、軟件來(lái)實(shí)現(xiàn)上述選擇。
可選地，所述質(zhì)譜分析儀進(jìn)一步包括定時(shí)人員設(shè)備，所述定時(shí)人員設(shè)備用于設(shè)定清洗狀態(tài)的開(kāi)始時(shí)間以及持續(xù)時(shí)間， 并傳送到所述控制人員設(shè)備?？梢酝ㄟ^(guò)維護(hù)人員實(shí)現(xiàn)或者電路、軟件來(lái)實(shí)現(xiàn)上述選擇?？蛇x地，所述質(zhì)譜分析儀進(jìn)一步包括判斷人員設(shè)備，所述判斷人員設(shè)備用于根據(jù)電極之間是否放電或質(zhì)譜分析儀的化學(xué)噪聲是否超過(guò)閾值而決定是否該處于清洗狀態(tài)，判斷結(jié)果傳送到所述控制人員設(shè)備。所述閾值是根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)的要求或者質(zhì)譜分析儀的使用者的可接受程度而靈活設(shè)定?？梢酝ㄟ^(guò)維護(hù)人員實(shí)現(xiàn)或者電路、軟件來(lái)實(shí)現(xiàn)上述選擇。本實(shí)施例還揭示了質(zhì)譜分析儀的工作方法，所述工作方法為在控制人員設(shè)備的選擇下，所述質(zhì)譜分析儀處于在線清洗狀態(tài)，射頻電源為質(zhì)譜分析儀的離子阱或四極桿提供恒定電壓，真空單元使所述離子阱或四極桿維持在低真空狀態(tài)，使得所述離子阱或四極桿的電極發(fā)生等離子放電，從而清洗了所述電極；優(yōu)選地，所述低真空狀態(tài)的壓力范圍為lO-lOOOmTorr。優(yōu)選地，所述恒定電壓為恒定幅值的射頻電壓，電壓范圍為100-1000伏特。在所述控制人員設(shè)備的選擇下，所述質(zhì)譜分析儀處于工作狀態(tài)，所述射頻電源為所述離子阱或四極桿提供高頻電壓，所述真空單元是所述離子阱或四極桿維持在高真空狀態(tài)?？蛇x地，所述工作方法進(jìn)一步包括判斷步驟判斷人員設(shè)備根據(jù)所述電極之間是否放電或質(zhì)譜分析儀的化學(xué)噪聲是否超過(guò)閾值而決定是否該處于清洗狀態(tài)，判斷結(jié)果傳送到所述控制人員設(shè)備，以便在需要時(shí)自動(dòng)地啟動(dòng)在線清洗功能。可選地，所述工作方法進(jìn)一步包括定時(shí)步驟在定時(shí)人員設(shè)備上設(shè)定所述清洗狀態(tài)的開(kāi)始時(shí)間和持續(xù)時(shí)間，定時(shí)人員設(shè)備的輸出信號(hào)傳送到所述控制人員設(shè)備，以便控制人員設(shè)備選擇性地使質(zhì)譜分析儀自動(dòng)地處于清洗狀態(tài)。根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例達(dá)到的益處在于可使用質(zhì)譜分析儀原有的射頻電源為電極提供恒定電壓，以及使用質(zhì)譜分析儀原有的真空單元提供低真空狀態(tài)，以實(shí)現(xiàn)在線清洗功能， 創(chuàng)造性地利用現(xiàn)有技術(shù)中的裝置去實(shí)現(xiàn)新的功能。無(wú)需拆卸，無(wú)需使用清洗劑清洗，真正實(shí)現(xiàn)了在線自動(dòng)清洗功能、清洗效果好。實(shí)施例2 根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例1的質(zhì)譜分析儀和工作方法在VOC檢測(cè)中的應(yīng)用例，如苯系物的檢測(cè)。質(zhì)譜分析儀采用離子阱，僅采用一個(gè)射頻電源，在工作狀態(tài)時(shí)為離子阱的電極提供高頻電壓峰峰值5000伏特，在清洗狀態(tài)時(shí)為離子阱的電極提供恒定幅值的射頻電壓幅值為100伏特。僅采用一個(gè)真空單元，在工作狀態(tài)時(shí)為離子阱提供高真空J(rèn)OuTorr，在清洗狀態(tài)時(shí)為離子阱提供低真空ITorr。上述質(zhì)譜分析儀的維護(hù)人員設(shè)定清洗狀態(tài)的開(kāi)始時(shí)間和持續(xù)時(shí)間常規(guī)情況下質(zhì)譜分析儀的使用頻率和使用時(shí)間都是大致確定的，因此能夠計(jì)算出離子阱需要清洗的時(shí)間。當(dāng)離子阱使用到一定時(shí)間后，維護(hù)人員啟動(dòng)在線清洗功能?；蛘呤褂枚〞r(shí)設(shè)備，記錄每一次的工作時(shí)間，當(dāng)工作時(shí)間累積到一定值時(shí)，自動(dòng)啟5/5頁(yè)
動(dòng)在線清洗功能。實(shí)施例3 根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例1的質(zhì)譜分析儀和工作方法在VOC檢測(cè)中的應(yīng)用例，如烷烴類物質(zhì)的檢測(cè)。質(zhì)譜分析儀采用離子阱，僅采用一個(gè)射頻電源，在工作狀態(tài)時(shí)為離子阱的電極提供高頻電壓峰峰值5000伏特，在清洗狀態(tài)時(shí)為離子阱的電極提供恒定幅值的射頻電壓幅值為500伏特。僅采用一個(gè)真空單元，在工作狀態(tài)時(shí)為離子阱提供高真空J(rèn)OuTorr， 在清洗狀態(tài)時(shí)為離子阱提供低真空0. 5Torr0上述質(zhì)譜分析儀的維護(hù)人員設(shè)定清洗狀態(tài)的開(kāi)始時(shí)間和持續(xù)時(shí)間常規(guī)情況下質(zhì)譜分析儀的使用頻率和使用時(shí)間都是大致確定的，因此能夠計(jì)算出離子阱需要清洗的時(shí)間。當(dāng)離子阱使用到一定時(shí)間后，維護(hù)人員啟動(dòng)在線清洗功能。或者使用定時(shí)設(shè)備，記錄每一次的工作時(shí)間，當(dāng)工作時(shí)間累積到一定值時(shí)，自動(dòng)啟動(dòng)在線清洗功能。實(shí)施例4 根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例1的在線監(jiān)測(cè)儀和監(jiān)測(cè)方法在VOC檢測(cè)中的應(yīng)用例，如揮發(fā)性鹵代烴的檢測(cè)中。質(zhì)譜分析儀采用四極桿，在原有的第一射頻電源的基礎(chǔ)上添加第二電源， 在工作狀態(tài)時(shí)第一射頻電源為四極桿的電極提供高頻電壓峰峰值6000伏特，在清洗狀態(tài)時(shí)第二電源為四極桿的電極提供恒定幅值的射頻電壓幅值為1000伏特。在原有的第一真空單元的基礎(chǔ)上添加第二真空單元，在工作狀態(tài)時(shí)第一真空單元為四極桿提供高真空 luTorr，在清洗狀態(tài)時(shí)第二真空單元為四極桿提供低真空IOmTorr。判斷人員設(shè)備(質(zhì)譜分析儀使用人員或判斷裝置)用于監(jiān)測(cè)四極桿的電極之間是否放電或質(zhì)譜分析儀的化學(xué)噪聲是否超過(guò)閾值，若放電或超過(guò)閾值則表明四極桿該處于清洗狀態(tài)，判斷結(jié)果傳送到所述控制人員設(shè)備。控制人員設(shè)備通過(guò)選擇，使四極桿處于清洗狀態(tài)第二電源為四極桿提供恒定電壓，第二真空單元使四極桿處于低真空狀態(tài)，從而使四極桿的電極間發(fā)生等離子放電，從而清理了電極上的污染物。
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權(quán)利要求
1.具有在線清洗功能的質(zhì)譜分析儀，所述質(zhì)譜分析儀包括離子阱或四極桿，其特征在于所述質(zhì)譜分析儀進(jìn)一步包括射頻電源，所述射頻電源用于在質(zhì)譜分析儀處于工作狀態(tài)時(shí)為離子阱或四極桿的電極施加高頻電壓；在質(zhì)譜分析儀處于清洗狀態(tài)時(shí)給所述離子阱或四極桿的電極施加恒定電壓；真空單元，所述真空單元用于在清洗狀態(tài)時(shí)使所述離子阱或四極桿維持在低真空狀態(tài)，從而使得所述離子阱或四極桿的電極在所述恒定電壓、低真空狀態(tài)時(shí)發(fā)生等離子放電， 以及在工作狀態(tài)時(shí)使所述離子阱或四極桿維持在高真空狀態(tài)；控制人員設(shè)備，所述控制人員設(shè)備用于選擇性地使所述質(zhì)譜分析儀處于清洗狀態(tài)、工作狀態(tài)和空閑狀態(tài)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的質(zhì)譜分析儀，其特征在于所述低真空狀態(tài)的壓力范圍為 10-1000mTorr。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的質(zhì)譜分析儀，其特征在于所述恒定電壓為恒定幅值的射頻電壓，電壓范圍為100-1000伏特。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的質(zhì)譜分析儀，其特征在于所述質(zhì)譜分析儀進(jìn)一步包括定時(shí)人員設(shè)備，所述定值模塊用于設(shè)定清洗狀態(tài)的開(kāi)始時(shí)間以及持續(xù)時(shí)間，并傳送到所述控制人員設(shè)備。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的質(zhì)譜分析儀，其特征在于所述質(zhì)譜分析儀進(jìn)一步包括判斷人員設(shè)備，所述判斷人員設(shè)備用于根據(jù)電極之間是否放電或質(zhì)譜分析儀的化學(xué)噪聲是否超過(guò)閾值而決定是否該處于清洗狀態(tài)，判斷結(jié)果傳送到所述控制人員設(shè)備。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的質(zhì)譜分析儀，其特征在于所述射頻電源僅為一個(gè)射頻電源， 或分別為所述電極提供高頻電壓和恒定電壓的第一射頻電源和第二電源。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的質(zhì)譜分析儀，其特征在于所述真空單元僅為一個(gè)真空單元， 或分別為所述離子阱或四極桿維持在低真空狀態(tài)和高真空狀態(tài)的第一真空單元和第二真空單元。
8.具有在線清洗功能的質(zhì)譜分析儀的工作方法，所述工作方法為在控制人員設(shè)備的選擇下，所述質(zhì)譜分析儀處于在線清洗狀態(tài)，射頻電源為質(zhì)譜分析儀的離子阱或四極桿提供恒定電壓，真空單元使所述離子阱或四極桿維持在低真空狀態(tài)， 使得所述離子阱或四極桿的電極發(fā)生等離子放電，從而清洗了所述電極；在所述控制人員設(shè)備的選擇下，所述質(zhì)譜分析儀處于工作狀態(tài)，所述射頻電源為所述離子阱或四極桿提供高頻電壓，所述真空單元是所述離子阱或四極桿維持在高真空狀態(tài)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的工作方法，其特征在于所述低真空狀態(tài)的壓力范圍為 10-1000mTorr。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的工作方法，其特征在于所述恒定電壓為恒定幅值的射頻電壓，電壓范圍為100-1000伏特。
11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的工作方法，其特征在于所述工作方法進(jìn)一步包括判斷步驟判斷人員設(shè)備根據(jù)所述電極之間是否放電或質(zhì)譜分析儀的化學(xué)噪聲是否超過(guò)閾值而決定是否該處于清洗狀態(tài)，判斷結(jié)果傳送到所述控制人員設(shè)備。
12.根據(jù)權(quán)利要求8所述的工作方法，其特征在于所述工作方法進(jìn)一步包括定時(shí)步驟在定時(shí)人員設(shè)備上設(shè)定所述清洗狀態(tài)的開(kāi)始時(shí)間和持續(xù)時(shí)間，定時(shí)人員設(shè)備的輸出信號(hào)傳送到所述控制人員設(shè)備。
全文摘要
本發(fā)明提供了具有在線清洗功能的質(zhì)譜分析儀，所述質(zhì)譜分析儀包括離子阱，射頻電源，所述射頻電源用于在清洗狀態(tài)時(shí)給所述離子阱施加恒定電壓，以及在工作狀態(tài)時(shí)為離子阱施加恒定電壓；真空單元，所述真空單元用于在清洗狀態(tài)時(shí)使所述離子阱維持在低真空狀態(tài)，從而使得所述離子阱的電極在所述恒定電壓、低真空狀態(tài)時(shí)發(fā)生等離子放電，以及在工作狀態(tài)時(shí)使所述離子阱維持在高真空狀態(tài)；控制單元，所述控制單元用于選擇性地使所述質(zhì)譜分析儀處于清洗狀態(tài)、空閑狀態(tài)和工作狀態(tài)。本發(fā)明具有清洗效果好、實(shí)施方便、自動(dòng)化高等優(yōu)點(diǎn)。
文檔編號(hào)H01J49/02GK102446692SQ20111028459
公開(kāi)日2012年5月9日 申請(qǐng)日期2011年9月23日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月23日
發(fā)明者劉立鵬, 梁炎, 鄭毅, 馬喬 申請(qǐng)人:聚光科技(杭州)股份有限公司