技術(shù)編號：42300980
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于增材制造質(zhì)量檢測，具體涉及基于三維移位窗多頭自注意的雙光子光刻零件質(zhì)檢方法。背景技術(shù)、雙光子光刻（two-photon?lithography,?tpl）是一種基于非線性光學(xué)效應(yīng)的先進(jìn)增材制造技術(shù)，能夠在微米甚至納米尺度上加工復(fù)雜三維結(jié)構(gòu)，廣泛應(yīng)用于生物醫(yī)療器件、微光學(xué)元件及柔性電子等領(lǐng)域。然而，tpl工藝的工業(yè)化應(yīng)用面臨核心瓶頸：零件質(zhì)量（如固化、未固化、損壞狀態(tài)）的實(shí)時(shí)檢測高度依賴人工經(jīng)驗(yàn)，且激光劑量參數(shù)的動(dòng)態(tài)調(diào)整缺乏高效自動(dòng)化手段。由于tpl加工過程中光敏樹脂的固化效果受激光強(qiáng)...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲(chǔ)備，不適合論文引用。
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