本發(fā)明涉及蒸發(fā)源單元、成膜裝置及成膜方法。

背景技術：

1、在有機el顯示器等的制造中，通過使從蒸發(fā)源放出的蒸鍍物質附著于基板，從而在基板上形成膜(薄膜)。在專利文獻1中公開了如下技術：使用多個蒸發(fā)源一邊使基板旋轉一邊進行成膜。

2、在先技術文獻

3、專利文獻

4、專利文獻1：日本特開2019-218623號公報

技術實現(xiàn)思路

1、發(fā)明要解決的課題

2、然而，近年來，由于基板不斷大型化，因此，在進行成膜時，難以使基板旋轉，有可能會使形成于基板的膜的膜厚均勻性下降。

3、本發(fā)明提供一種有利于形成于基板的膜的膜厚均勻化的技術。

4、用于解決課題的手段

5、作為本發(fā)明的一方式的蒸發(fā)源單元對在移動方向上相對移動的基板進行成膜，其特征在于，所述蒸發(fā)源單元具有：多個蒸發(fā)源，所述多個蒸發(fā)源分別獨立地包含容器和加熱部件，所述容器收容有將要附著于所述基板的蒸鍍物質，所述加熱部件對收容于所述容器的所述蒸鍍物質進行加熱；以及控制部件，所述控制部件分別對所述多個蒸發(fā)源進行控制，所述多個蒸發(fā)源包含第一蒸發(fā)源、第二蒸發(fā)源及第三蒸發(fā)源，所述第一蒸發(fā)源、第二蒸發(fā)源及第三蒸發(fā)源沿著與所述移動方向交叉的交叉方向從所述多個蒸發(fā)源的布局區(qū)域的中心依次排列配置，所述控制部件分別對所述第一蒸發(fā)源、所述第二蒸發(fā)源及所述第三蒸發(fā)源進行控制，以使所述第二蒸發(fā)源的成膜速率比所述第一蒸發(fā)源的成膜速率及所述第三蒸發(fā)源的成膜速率小。

6、發(fā)明效果

7、根據(jù)本發(fā)明，例如能夠提供有利于形成于基板的膜的膜厚均勻化的技術。

8、本發(fā)明的其他特征及優(yōu)點通過參照附圖的以下的說明而變得明確。此外，在附圖中，對相同或同樣的結構標注相同的附圖標記。

技術特征：

1.一種蒸發(fā)源單元，所述蒸發(fā)源單元對在移動方向上相對移動的基板進行成膜，其特征在于，所述蒸發(fā)源單元具有：

2.根據(jù)權利要求1所述的蒸發(fā)源單元，其特征在于，

3.根據(jù)權利要求2所述的蒸發(fā)源單元，其特征在于，

4.根據(jù)權利要求1所述的蒸發(fā)源單元，其特征在于，

5.根據(jù)權利要求4所述的蒸發(fā)源單元，其特征在于，

6.根據(jù)權利要求1所述的蒸發(fā)源單元，其特征在于，

7.根據(jù)權利要求6所述的蒸發(fā)源單元，其特征在于，

8.根據(jù)權利要求6所述的蒸發(fā)源單元，其特征在于，

9.根據(jù)權利要求1所述的蒸發(fā)源單元，其特征在于，

10.根據(jù)權利要求1所述的蒸發(fā)源單元，其特征在于，

11.根據(jù)權利要求10所述的蒸發(fā)源單元，其特征在于，

12.根據(jù)權利要求11所述的蒸發(fā)源單元，其特征在于，

13.一種成膜裝置，其特征在于，

14.一種成膜方法，所述成膜方法對在移動方向上相對移動的基板進行成膜，其特征在于，

技術總結
提供一種蒸發(fā)源單元，所述蒸發(fā)源單元對在移動方向上相對移動的基板進行成膜，其特征在于，所述蒸發(fā)源單元具有：多個蒸發(fā)源，所述多個蒸發(fā)源分別獨立地包含容器和加熱部件，所述容器收容有將要附著于所述基板的蒸鍍物質，所述加熱部件對收容于所述容器的所述蒸鍍物質進行加熱；以及控制部件，所述控制部件分別對所述多個蒸發(fā)源進行控制，所述多個蒸發(fā)源包含第一蒸發(fā)源、第二蒸發(fā)源及第三蒸發(fā)源，所述第一蒸發(fā)源、第二蒸發(fā)源及第三蒸發(fā)源沿著與所述移動方向交叉的交叉方向從所述多個蒸發(fā)源的布局區(qū)域的中心依次排列配置，所述控制部件分別對所述第一蒸發(fā)源、所述第二蒸發(fā)源及所述第三蒸發(fā)源進行控制，以使所述第二蒸發(fā)源的成膜速率比所述第一蒸發(fā)源的成膜速率及所述第三蒸發(fā)源的成膜速率小。

技術研發(fā)人員：菅原由季,市原正浩
受保護的技術使用者：佳能特機株式會社
技術研發(fā)日：
技術公布日：2025/6/30