本發(fā)明屬于半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域，具體地說是一種用于大尺寸方片顯影裝置。

背景技術(shù)：

1、在半導(dǎo)體行業(yè)中，顯影裝置用于對方片進(jìn)行顯影作業(yè)，隨著半導(dǎo)體制程的發(fā)展以及生產(chǎn)效率的提升需求，以及現(xiàn)階段對小型化設(shè)備的要求，現(xiàn)有的顯影機(jī)構(gòu)已不再滿足顯影效果高、產(chǎn)能效率高等需求。

2、在傳統(tǒng)顯影裝置中，顯影液、漂洗液和氣體的排放路徑往往不夠明確，液體和氣體容易混合排放，導(dǎo)致回收效率低下，此外，液體的無序排放還可能導(dǎo)致設(shè)備內(nèi)部積液，影響設(shè)備的正常運(yùn)行。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種用于大尺寸方片顯影裝置，以解決現(xiàn)有技術(shù)中顯影液、漂洗液和氣體的排放路徑往往不夠明確，液體和氣體容易混合排放，導(dǎo)致回收效率低下的問題。

2、一種用于大尺寸方片顯影裝置，包括顯影臺機(jī)構(gòu)和驅(qū)動機(jī)構(gòu)；

3、所述顯影臺機(jī)構(gòu)包括底板，所述底板的中間安裝有顯影定位組件，所述底板的底部固定安裝有排氣管、排液通道一和排液通道二，所述底板的上側(cè)位于顯影定位組件的外側(cè)還安裝有分流組件；

4、所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)包括安裝于底板上的擺臂組件，所述擺臂組件上還設(shè)置有噴嘴組件；

5、所述分流組件包括底托板件，所述底托板件的上側(cè)設(shè)置有分流件，所述分流件的上側(cè)中間位置卡嵌有分隔板件，所述分流件的上側(cè)套設(shè)有防護(hù)蓋件；

6、所述顯影定位組件和排液通道二相互連通，所述排液通道二用于排出顯影液和漂洗液，所述排氣管用于排出漂洗時(shí)使用的氮?dú)夂蛷脑O(shè)備頂端ffu進(jìn)入到腔室內(nèi)部的空氣，所述排液通道一用于排出漂洗時(shí)用的漂洗液。

7、優(yōu)選的，所述底托板件包括底托板本體，所述底托板本體的內(nèi)圈開設(shè)有排氣孔一，所述底托板本體的外圈開設(shè)有排液孔一；

8、所述分流件包括環(huán)形架，所述環(huán)形架為上側(cè)敞開的中空環(huán)，所述環(huán)形架的上側(cè)中間固定連接有分隔板，所述環(huán)形架上開設(shè)有排氣孔二和排液孔二，所述分隔板將環(huán)形架分隔成排液槽和排氣槽，所述排氣孔二位于排氣槽內(nèi)，所述排液孔二位于排液槽內(nèi)，所述環(huán)形架的上側(cè)中間位置還固定連接有支撐架；

9、所述分隔板件包括配重架，所述配重架的底部設(shè)置有定位卡架，所述配重架的外沿還固定連接有分擋板；

10、所述排氣管依次貫穿底板、排氣孔一、排氣孔二后和環(huán)形架平齊；

11、所述排液通道一依次貫穿底板、排液孔一、排液孔二后和環(huán)形架平齊；

12、所述定位卡架限位卡嵌于支撐架上，所述分擋板延伸到排液槽內(nèi)。

13、優(yōu)選的，所述底托板本體的外側(cè)邊緣還固定連接有限位沿，所述環(huán)形架的底部外沿開設(shè)有定位沿；

14、所述定位沿和限位沿相匹配，所述環(huán)形架放置于底托板本體上。

15、優(yōu)選的，所述防護(hù)蓋件包括防護(hù)蓋本體，所述防護(hù)蓋本體的下端固定連接有延伸板；

16、所述延伸板延伸到排液槽內(nèi)，并緊貼排液槽的外側(cè)壁。

17、優(yōu)選的，所述顯影臺機(jī)構(gòu)還包括固定安裝于底板上的氣缸二，所述氣缸二的上端和防護(hù)蓋件固定相連。

18、優(yōu)選的，所述顯影定位組件包括主軸電機(jī)和電機(jī)支架，所述主軸電機(jī)的內(nèi)部設(shè)置有氣路通道；

19、所述氣路通道和負(fù)壓吸引裝置相互連通，所述主軸電機(jī)和外部控制系統(tǒng)電性相連；所述主軸電機(jī)通過電機(jī)支架限位卡嵌于底板上。

20、優(yōu)選的，所述顯影定位組件還包括固定安裝于底板底部的氣缸一，所述氣缸一的驅(qū)動端和電機(jī)支架固定相連。

21、優(yōu)選的，所述顯影定位組件還包括導(dǎo)液板和伸縮管，所述伸縮管固定安裝于底板上，所述導(dǎo)液板安裝于伸縮管的上端。

22、優(yōu)選的，其中一個(gè)所述噴嘴組件用于噴灑顯影液，其中一個(gè)所述噴嘴組件用于噴灑漂洗液，其中一個(gè)所述噴嘴組件用于吹出氮?dú)狻?/p>

23、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有如下有益效果：

24、通過分流組件引導(dǎo)顯影液、漂洗液和氣體的流動路徑，通過排液通道一和排液通道二排出漂洗液和顯影液，以及排氣管排出氮?dú)夂蛷脑O(shè)備頂端ffu進(jìn)入到腔室內(nèi)部的空氣，實(shí)現(xiàn)了液體和氣體的分開排放，進(jìn)而大大提高了回收的效率；

25、通過防護(hù)蓋件可以防止漂洗液濺射到設(shè)備外部，減少設(shè)備腐蝕和故障風(fēng)險(xiǎn)，延長設(shè)備使用壽命；

26、通過顯影、漂洗和吹干作業(yè)在同一裝置上完成，減少了晶片在不同設(shè)備之間的轉(zhuǎn)移，避免了轉(zhuǎn)移過程中的污染和損傷，提高了整體作業(yè)效率；

27、氣缸二通過外部控制系統(tǒng)控制防護(hù)蓋件的上升和下降，主軸電機(jī)通過氣路通道和負(fù)壓吸引裝置固定晶片并實(shí)現(xiàn)旋轉(zhuǎn)，氣缸一控制晶片的上下移動，整個(gè)過程高度自動化，減少了人工干預(yù)，降低了操作難度和勞動強(qiáng)度；

28、分隔板和分擋板將環(huán)形架分隔成排液槽和排氣槽，確保漂洗液僅通過排液槽排出，氣體通過排氣槽排出，避免了液體和氣體的混合，提高了設(shè)備的運(yùn)行效率。

1.一種用于大尺寸方片顯影裝置，其特征在于，包括顯影臺機(jī)構(gòu)(1)和驅(qū)動機(jī)構(gòu)(2)；

2.如權(quán)利要求1所述一種用于大尺寸方片顯影裝置，其特征在于，所述底托板件(161)包括底托板本體(1611)，所述底托板本體(1611)的內(nèi)圈開設(shè)有排氣孔一(1612)，所述底托板本體(1611)的外圈開設(shè)有排液孔一(1613)；

3.如權(quán)利要求2所述一種用于大尺寸方片顯影裝置，其特征在于，所述底托板本體(1611)的外側(cè)邊緣還固定連接有限位沿(1614)，所述環(huán)形架(1621)的底部外沿開設(shè)有定位沿(1626)；

4.如權(quán)利要求3所述一種用于大尺寸方片顯影裝置，其特征在于，所述防護(hù)蓋件(164)包括防護(hù)蓋本體(1641)，所述防護(hù)蓋本體(1641)的下端固定連接有延伸板(1642)；

5.如權(quán)利要求1所述一種用于大尺寸方片顯影裝置，其特征在于，所述顯影臺機(jī)構(gòu)(1)還包括固定安裝于底板(11)上的氣缸二(17)，所述氣缸二(17)的上端和防護(hù)蓋件(164)固定相連。

6.如權(quán)利要求1所述一種用于大尺寸方片顯影裝置，其特征在于，所述顯影定位組件(12)包括主軸電機(jī)(121)和電機(jī)支架(122)，所述主軸電機(jī)(121)的內(nèi)部設(shè)置有氣路通道(123)；

7.如權(quán)利要求6所述一種用于大尺寸方片顯影裝置，其特征在于，所述顯影定位組件(12)還包括固定安裝于底板(11)底部的氣缸一(124)，所述氣缸一(124)的驅(qū)動端和電機(jī)支架(122)固定相連。

8.如權(quán)利要求7所述一種用于大尺寸方片顯影裝置，其特征在于，所述顯影定位組件(12)還包括導(dǎo)液板(125)和伸縮管(126)，所述伸縮管(126)固定安裝于底板(11)上，所述導(dǎo)液板(125)安裝于伸縮管(126)的上端。

9.如權(quán)利要求1所述一種用于大尺寸方片顯影裝置，其特征在于，其中一個(gè)所述噴嘴組件(22)用于噴灑顯影液，其中一個(gè)所述噴嘴組件(22)用于噴灑漂洗液，其中一個(gè)所述噴嘴組件(22)用于吹出氮?dú)狻?/p>
技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域，具體公開了一種用于大尺寸方片顯影裝置，包括顯影臺機(jī)構(gòu)和驅(qū)動機(jī)構(gòu)；所述顯影臺機(jī)構(gòu)包括底板，所述底板的中間安裝有顯影定位組件，所述底板的底部固定安裝有排氣管、排液通道一和排液通道二，所述底板的上側(cè)位于顯影定位組件的外側(cè)還安裝有分流組件；所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)包括安裝于底板上的擺臂組件，所述擺臂組件上還設(shè)置有噴嘴組件；本發(fā)明通過分流組件引導(dǎo)顯影液、漂洗液和氣體的流動路徑，通過排液通道一和排液通道二排出漂洗液和顯影液，以及排氣管排出氣體，實(shí)現(xiàn)了液體和氣體的分開排放，進(jìn)而大大提高了回收的效率；通過防護(hù)蓋件可以防止漂洗液濺射到設(shè)備外部，減少設(shè)備腐蝕和故障風(fēng)險(xiǎn)，延長設(shè)備使用壽命。

技術(shù)研發(fā)人員：李日中,李順,蘆剛,張光楷
受保護(hù)的技術(shù)使用者：三河建華高科有限責(zé)任公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/6/26